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青白江印章:光敏印油的原理

发布时间:2019-12-13浏览次数:
青白江印章:光敏印油的原理
 
  光致抗蚀剂 用于光加工工艺的光敏高分子,通称光致抗蚀剂(又称光刻胶),大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。它的工作原理是受光部分发生交联,生成难溶性的硬化膜,经加工成负像(负性胶);或者是原来的不溶性胶受光照后变为可溶性的,经加工得正像(正性胶)青白江印章。  
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通常用的光致抗蚀剂有:
 
①聚肉桂酸酯型,例如聚乙烯醇肉桂酸酯,由聚乙烯醇和肉桂酰氯在吡啶溶剂中合成,配制的光刻胶称KPR。在紫外线作用下,肉桂酸酯的双键发生光化学二聚反应,形成交联,转变为不溶性物质。KPR是最早用于光刻的一种光致抗蚀剂,通常加入5-硝基苊等作为光敏剂青白江印章。
 
②丙烯酰基型,其线型聚合物不能得到优良的图像,所以实用体系都由预聚体和单体组成,同时进行聚合和交联。通常交联单体和预聚体是一元或多元的丙烯酸酯、丙烯酰胺和丙烯酸氨基甲酸酯类。例如,由这类单体交联剂制成的聚酯和尼龙感光树脂版,已能用来代替铜、锌凸版青白江印章。
 
③叠氮型,叠氮化物光解,生成活泼的一价氮化物,很容易偶合或与碳-氢键、双键反应。用于光敏树脂的叠氮化物均为稳定的芳族化合物。双叠氮化合物是一种光交联剂(如下式所示),能引起许多高聚物交联。 例如叠氮-环化橡胶就是一种常用的光致抗蚀剂青白江印章。
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④重氮盐类和邻偶氮醌型光敏高分子,也是常见的光致抗蚀剂。  光固化涂层和油墨 光敏高分子的另一重要类型。由于它具有不用溶剂,不产生污染,以及固化速率快等优点,近年来发展很快。
 
它们的主要组成:①树脂或预聚体;②交联单体(一般为双或多官能团的丙烯酸酯类);③光引发剂;④颜料或染料。目前以丙烯酸酯型和不饱和聚酯型为主;尤以前者重要。此外,硫醇-烯类光聚合和阳离子开环光聚合体系也是近年来引人注意的体系。  
 
其他功能性的光敏高分子 可根据不同的用途,通过引入相应功能的光敏官能团而制得。例如利用吲哚啉苯并螺吡喃发生可逆的光异构化反应,可以制备光致变色功能高分子。又如咔唑,在光作用下易和电子受体发生电子转移,可用作高分子光导电材料。再如四溴四碘荧光素,在光作用下通过能量转移能使氧转变为单线态氧,可用作高分子型光氧化催化剂等青白江印章。

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